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Process for creating lithographically-defined plasmonic structures with enhanced Q factors

机译:具有增强的Q因子的光刻定义的等离激元结构的创建过程

摘要

A method for plasmonic structure manufacture and for protecting a plasmonic nanostructure during annealing is provided. The method includes: lithographically forming a plasmonic nanostructure on a substrate; encapsulating the plasmonic nanostructure in high temperature resistant material; annealing the plasmonic nanostructure; and removing the high temperature resistant material to reveal the annealed plasmonic nanostructure.
机译:提供了一种在退火期间用于等离子体结构的制造和用于保护等离子体纳米结构的方法。该方法包括:在基板上光刻形成等离子体纳米结构;将等离子体纳米结构封装在耐高温材料中;退火等离子体纳米结构;并去除耐高温材料以揭示退火的等离子体纳米结构。

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