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Method for producing plasma flow, method for plasma processing, apparatus for producing plasma, and apparatus for plasma processing

机译:用于产生等离子体流的方法,用于等离子体处理的方法,用于产生等离子体的设备以及用于等离子体处理的设备

摘要

Provided are a plasma stream generation method, a plasma processing method, a plasma generation apparatus, and a plasma processing apparatus using same, which enable plasma processing with rotating plasma to be controllably performed with stability and thereby improved in quality. The frequencies in four quadrants Z1-Z4 are set at 7, 15, 6, and 20 Hz, respectively. This frequency variability can realize different rotational velocity of plasma in the four-portion partitioned rotational angle regions. The rotational velocities of plasmas P2, P4 are greater than those of plasmas P1, P3. Thus, the rotating plasma, which rotates at a periodically varied rotational velocity as plasma P1, plasma P2, plasma P3, and plasma P4 in that order while traveling in a circular orbit C, can be used for irradiation therewith, thereby performing uniform film formation treatment in first quadrant Z1 to fourth quadrant Z4.
机译:提供了一种等离子体流产生方法,一种等离子体处理方法,一种等离子体产生设备以及使用该等离子体流产生方法的等离子体处理设备,其使得能够稳定地控制旋转的等离子体的等离子体处理,从而提高了质量。四个象限Z 1 -Z 4 中的频率分别设置为7、15、6和20 Hz。该频率可变性可以在四部分分开的旋转角区域中实现等离子体的不同旋转速度。等离子体P 2 ,P 4 的旋转速度大于等离子体P 1 ,P 3 的旋转速度。因此,以周期性变化的旋转速度旋转的旋转等离子体为等离子体P 1 ,等离子体P 2 ,等离子体P 3 和等离子体P 4 沿圆形轨道C依次移动,可用于照射,从而在第一象限Z 1 至第四象限Z < B> 4。

著录项

  • 公开/公告号US9426875B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-08-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KEISUKE SAGISAKA;YOSHIFUMI NOGUCHI;

    申请/专利号US201113642442

  • 发明设计人 KEISUKE SAGISAKA;YOSHIFUMI NOGUCHI;

    申请日2011-04-20

  • 分类号C23C14/34;H05H1/50;H01J37/34;H01J37/32;C23C14/32;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:30:30

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