首页> 外国专利> High-k dielectrics with a low-k interface for solution processed devices

High-k dielectrics with a low-k interface for solution processed devices

机译:高k电介质和低k接口用于溶液处理设备

摘要

A device, including a substrate, an electronically active component on the substrate, an interface dielectric on the semiconductor, and a relaxor dielectric on the interface dielectric. The relaxor dielectric includes a surfactant that is solid at room temperature.
机译:一种器件,包括衬底,衬底上的电子活性成分,半导体上的界面电介质以及界面电介质上的弛豫电介质。弛豫电介质包括在室温下为固体的表面活性剂。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号