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Density-based integrated circuit design adjustment

机译:基于密度的集成电路设计调整

摘要

The disclosed technology is related to adjusting an integrated circuit design while accounting for a local density of the design. In particular exemplary embodiments, a local density value for a layout design that defines a plurality of geometric shapes is derived. Subsequently, one or more of the geometric shapes are adjusted such that the local density value is preserved. With some implementations, the local density value is preserved if the adjusted local density value is within a threshold amount of the derived local density value.
机译:所公开的技术涉及在考虑设计的局部密度的同时调整集成电路设计。在特定的示例性实施例中,导出了用于定义多个几何形状的布局设计的局部密度值。随后,调整一个或多个几何形状,以便保留局部密度值。在一些实施方式中,如果调整后的局部密度值在所导出的局部密度值的阈值量之内,则保留局部密度值。

著录项

  • 公开/公告号US9355201B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MENTOR GRAPHICS CORPORATION;

    申请/专利号US201313970281

  • 发明设计人 YURI GRANIK;

    申请日2013-08-19

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:29:23

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