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ETCHING SOLUTION COMPOSITION FOR MOLYBDENUM-BASED METAL LAYER OR ALUMINUM-BASED METAL LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF AN ARRAY SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY USING THE SAME

机译:基于钼的金属层或基于铝的金属层的蚀刻溶液组成以及使用该溶液的液晶显示阵列基质的制造方法

摘要

The present invention relates to the molybdenum base metal films or aluminum-based metal film of a kind of etchant, and the method for manufacturing the array substrate of liquid crystal display device uses. More particularly it relates to the molybdenum base metal film or aluminum-based metal film of a kind of etchant, including sodium peroxydisulfate, nitrogen, acetic acid, additive and water, and manufacture the method use of the array substrate of liquid crystal display device. Etchant of the invention, the etchant can control the etchant by reducing viscosity. ;The 2016 of copyright KIPO submissions
机译:本发明涉及一种蚀刻剂的钼基金属膜或铝基金属膜,以及使用该液晶显示装置的阵列基板的制造方法。更具体地说,涉及一种包括过氧二硫酸钠,氮气,醋酸,添加剂和水在内的一种蚀刻剂的钼基金属膜或铝基金属膜,并利用液晶显示装置的阵列基板来制造方法。本发明的蚀刻剂可以通过降低粘度来控制蚀刻剂。 ; 2016年版权KIPO提交文件

著录项

  • 公开/公告号KR20160097755A

    专利类型

  • 公开/公告日2016-08-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DONGWOO FINE-CHEM CO. LTD.;

    申请/专利号KR20150019959

  • 发明设计人 JANG SANG HOON;LEE SUCK JUN;KIM TAE WAN;

    申请日2015-02-10

  • 分类号C09K13/06;C23F1/20;C23F1/30;H01L21/306;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 14:13:44

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