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ETCHANT COMPOSITION FOR MOLYBDENUM-CONTAINING METAL LAYER, AND MANUFACTURING METHOD OF ARRAY SUBSTRATE USING SAME FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

机译:液晶显示装置中含钼金属层的止蚀剂组成及阵列基质的制造方法

摘要

The present invention relates to an etchant composition for a molybdenum (Mo)-containing metal layer, and to a manufacturing method of an array substrate using same for a liquid crystal display device. More particularly, the etchant composition for a Mo-containing metal layer comprises hydrogen peroxide, a fluorine compound, an azole-based compound, glycine, and water. The etchant composition exhibits excellent etching profile, and minimizes damage to glass and passivation.;COPYRIGHT KIPO 2016
机译:本发明涉及一种用于含钼(Mo)的金属层的蚀刻剂组合物,以及涉及一种用于液晶显示装置的阵列基板的制造方法。更特别地,用于含Mo的金属层的蚀刻剂组合物包含过氧化氢,氟化合物,唑基化合物,甘氨酸和水。该蚀刻剂组合物表现出优异的蚀刻性能,并最大程度地减少了对玻璃和钝化的损害。; COPYRIGHT KIPO 2016

著录项

  • 公开/公告号KR20160112802A

    专利类型

  • 公开/公告日2016-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DONGWOO FINE-CHEM CO. LTD.;

    申请/专利号KR20150039116

  • 发明设计人 KIM JIN SUNGKR;KIM BEOM SOOKR;

    申请日2015-03-20

  • 分类号C09K13/00;C23F1/14;G02F1/1333;H01L21/306;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 14:13:29

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