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N- N-DOPED GRAPHENE QUANTUM SHEET AND RPODUCING METHOD OF THE SAME

机译:N-N掺杂的石墨烯量子片及其重制方法

摘要

The present invention relates to a method for producing an N-doped graphene quantum sheet comprising applying a nitrogen plasma to a single-layer graphene formed on a catalyst layer by chemical vapor deposition, and a method for producing an N-doped graphene quantum sheet, Doped graphene quantum sheet containing a doping amount.
机译:本发明涉及一种N掺杂的石墨烯量子片的制造方法,其包括通过化学气相沉积将氮等离子体施加到在催化剂层上形成的单层石墨烯上的方法,以及一种N掺杂的石墨烯量子片的制造方法,包含掺杂量的掺杂石墨烯量子片。

著录项

  • 公开/公告号KR101633688B1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-06-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 서울대학교산학협력단;

    申请/专利号KR20140072258

  • 发明设计人 홍병희;문준희;

    申请日2014-06-13

  • 分类号C01B31/04;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 14:12:20

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