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Manufacturing method of shielding grating used for imaging by X-ray Talbot interferometry

机译:X射线塔尔博特干涉成像成像用屏蔽光栅的制造方法

摘要

A method for manufacturing a structure by using a silicon mold, in which disturbances in arrangement due to charges are reduced, can be provided. The method for manufacturing a structure includes the steps of forming a recessed portion in a silicon substrate, cleaning, drying, or conveying the silicon substrate while charges of a plurality of portions sandwiched between the recessed portion are removed, and filling a metal into the recessed portion of the silicon substrate subjected to the cleaning, drying, or conveying.
机译:可以提供一种通过使用硅模制造结构的方法,其中减少了由于电荷引起的布置干扰。用于制造结构的方法包括以下步骤:在硅基板中形成凹部,清洗,干燥或输送硅基板,同时去除夹在凹部之间的多个部分的电荷,以及将金属填充到凹部中。清洗,干燥或输送的硅基板的一部分。

著录项

  • 公开/公告号JP6176898B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 キヤノン株式会社;

    申请/专利号JP20120155512

  • 发明设计人 手島 隆行;▲瀬▼戸本 豊;

    申请日2012-07-11

  • 分类号G01T7;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:54:27

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