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METHODS OF FORMING HIGHLY P-TYPE DOPED GERMANIUM TIN FILMS AND STRUCTURES AND DEVICES INCLUDING THE FILMS

机译:形成高P型掺杂锗锡薄膜的方法以及包括该薄膜的结构和装置

摘要

Methods of forming p-type doped germanium-tin layers, systems for forming the p-type doped germanium-tin layers, and structures including the p-type doped germanium-tin layers are disclosed. The p-type doped germanium-tin layers include an n-type dopant, which allows relatively high levels of tin and/or p-type dopant to be included into the p-type doped germanium-tin layers.
机译:公开了形成p型掺杂的锗锡层的方法,用于形成p型掺杂的锗锡层的系统以及包括该p型掺杂的锗锡层的结构。 p型掺杂的锗锡层包括n型掺杂剂,其允许相对高水平的锡和/或p型掺杂剂被包含在p型掺杂的锗锡层中。

著录项

  • 公开/公告号US2017047446A1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-02-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASM IP HOLDING B.V.;

    申请/专利号US201514827177

  • 发明设计人 JOE MARGETIS;JOHN TOLLE;

    申请日2015-08-14

  • 分类号H01L29/78;C23C16/455;H01L29/167;H01L29/08;H01L21/02;H01L29/161;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:50:59

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