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Manufacturing Methods of MOSFET-Type Compact Three-Dimensional Memory

机译:MOSFET型紧凑型三维存储器的制造方法

摘要

Manufacturing methods of MOSFET-type compact three-dimensional memory (3D-MC) are disclosed. In a memory level stacked above the substrate, an x-line extends from a memory array to an above-substrate decoding stage. A MOSFET-type transistor is formed on the x-line as a decoding device for the above-substrate decoding stage, where the overlap portion of the x-line with the control-line (c-line) is semi-conductive.
机译:公开了一种MOSFET型紧凑三维存储器(3D-M C )的制造方法。在堆叠在衬底上方的存储器级中,x线从存储器阵列延伸到衬底上方的解码级。在x线上形成MOSFET型晶体管作为用于上述基板解码级的解码装置,其中,x线与控制线(c线)的重叠部分是半导电的。

著录项

  • 公开/公告号US2017194379A1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GUOBIAO ZHANG;

    申请/专利号US201715453866

  • 发明设计人 GUOBIAO ZHANG;

    申请日2017-03-08

  • 分类号H01L27/24;H01L45;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:46:58

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