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Method for realizing heterogeneous III-V silicon photonic integrated circuits

机译:一种异质Ⅲ-v硅光子集成电路的实现方法

摘要

A method of producing a heterogeneous photonic integrated circuit includes integrating at least one III-V hybrid device on a source substrate having at least a top silicon layer, and transferring by transfer-printing or by flip-chip bonding the III-V hybrid device and at least part of the top silicon layer of the source substrate to a semiconductor-on-insulator or dielectric-on-insulator host substrate.
机译:一种生产异构光子集成电路的方法,包括将至少一个III-V混合器件集成在具有至少一个顶部硅层的源基板上,以及通过转移印刷或通过倒装芯片键合将III-V混合器件进行转移。源衬底的顶部硅层的至少一部分到绝缘体上半导体或绝缘体上介电主体衬底。

著录项

  • 公开/公告号US9772447B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 IMEC VZW;UNIVERSITEIT GENT;

    申请/专利号US201615147988

  • 申请日2016-05-06

  • 分类号G02B6/12;H01L23/52;H01L29/40;H01L21;H01L21/30;H01L21/46;H01S5/02;G02B6/122;H01L31/103;G02B6/14;G02B6/34;G02F1/017;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:46:01

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