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Method for growing a SiC crystal by vapor deposition onto a seed crystal provided on a supporting shelf which permits thermal expansion

机译:通过气相沉积到设置在允许热膨胀的支撑架上的籽晶上来生长SiC晶体的方法

摘要

A method of forming an SiC crystal, the method including: placing a SiC seed in a growth vessel, heating the growth vessel, and evacuating the growth vessel, wherein the seed is levitated as a result of a temperature and pressure gradient, and gas flows from a growth face of the seed, around the edge of the seed, and into a volume behind the seed, which is pumped by a vacuum system.
机译:一种形成SiC晶体的方法,该方法包括:将SiC晶种放入生长容器中,加热该生长容器,并排空该生长容器,其中,由于温度和压力梯度而使晶种悬浮,并且气体流动从种子的生长面到种子的边缘,再到种子后面的空间,然后通过真空系统将其泵送。

著录项

  • 公开/公告号US9738991B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-08-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DOW CORNING CORPORATION;

    申请/专利号US201313963989

  • 发明设计人 MARK LOBODA;

    申请日2013-08-09

  • 分类号C30B23/02;C30B23;C30B29/36;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:45:44

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