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III-V compound semiconductor device having dopant layer and method of making the same

机译:具有掺杂剂层的III-V族化合物半导体器件及其制造方法

摘要

A semiconductor device comprises a semiconductor substrate; a channel layer of at least one III-V semiconductor compound above the semiconductor substrate; a gate electrode above a first portion of the channel layer; a source region and a drain region above a second portion of the channel layer; and a dopant layer comprising at least one dopant contacting the second portion of the channel layer.
机译:一种半导体器件,包括半导体衬底;在半导体衬底上方的至少一种III-V族半导体化合物的沟道层;在沟道层的第一部分上方的栅电极;沟道层的第二部分上方的源极区和漏极区;掺杂剂层包括与沟道层的第二部分接触的至少一种掺杂剂。

著录项

  • 公开/公告号US9685514B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-06-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO. LTD.;

    申请/专利号US201514926077

  • 发明设计人 RICHARD KENNETH OXLAND;MARK VAN DAL;

    申请日2015-10-29

  • 分类号H01L29/207;H01L21/02;H01L21/225;H01L29/66;H01L29/78;H01L21/306;H01L21/31;H01L21/324;H01L29/08;H01L29/205;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:44:38

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