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Large-scale patterning of germanium quantum dots by stress transfer

机译:通过应力转移对锗量子点进行大规模构图

摘要

Provided is a method for forming a two-dimensional array of semiconductor quantum confined structures. The method includes providing a layer that has first atoms and second atoms, the first atoms having a different size than the second atoms; providing an indenter template that includes at least one indenter structure extending from a surface of the indenter template; contacting the layer and the at least one indenter structure together with a pressure sufficient to generate an elastic deformation in the layer but without generating plastic deformation of the layer; annealing the layer. The contacting of the layer and the at least one indenter structure includes forming at least one quantum confined structure in the layer.
机译:提供了一种用于形成半导体量子约束结构的二维阵列的方法。该方法包括提供具有第一原子和第二原子的层,第一原子的尺寸与第二原子的尺寸不同。提供一种压头模板,该压头模板包括从压头模板的表面延伸的至少一个压头结构;使所述层和所述至少一个压头结构与足以在所述层中产生弹性变形但不产生所述层的塑性变形的压力接触;退火层。所述层与所述至少一个压头结构的接触包括在所述层中形成至少一个量子约束结构。

著录项

  • 公开/公告号US9666431B1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-05-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANG M. HAN;TALID R. SINNO;

    申请/专利号US201615161633

  • 发明设计人 SANG M. HAN;TALID R. SINNO;

    申请日2016-05-23

  • 分类号H01L21/02;H01L51/00;H01L21/8234;H01L21/324;B82Y40/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:43:08

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