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MOSFET SRAM SRAM CELLS WITH VERTICAL GATE-ALL-ROUND MOSFETS

机译:MOSFET SRAM SRAM单元,带垂直全栅MOSFET

摘要

A Static Random Access Memory (SRAM) cell includes a first boundary and a second boundary opposite to, and parallel to, the first boundary, a first and a second pull-up transistor, a first and a second pull-down transistor forming cross-latched inverters with the first and the second pull-up transistors, and a first and a second pass-gate transistor. Each of the first and the second pull-up transistors, the first and the second pull-down transistors, and the first and the second pass-gate transistors includes a bottom plate as a first source/drain region, a channel over the bottom plate, and a top plate over the channel as a second source/drain region. The SRAM cell further includes a first, a second, a third, and a fourth active region, each extending from the first boundary to the second boundary.
机译:静态随机存取存储器(SRAM)单元包括与第一边界相对并平行于该第一边界的第一边界和第二边界,形成交叉的第一和第二上拉晶体管,第一和第二下拉晶体管。具有第一和第二上拉晶体管以及第一和第二传输门晶体管的锁存反相器。第一和第二上拉晶体管,第一和第二下拉晶体管,以及第一和第二通过栅晶体管中的每一个均包括作为第一源/漏区的底板,在该底板上方的沟道。 ,以及位于通道上方的顶板,作为第二源/漏区。 SRAM单元还包括第一,第二,第三和第四有源区,每个有源区从第一边界延伸到第二边界。

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