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Aberration measurement angle range calculation apparatus, aberration measurement angle range calculation method, and electron microscope

机译:像差测量角度范围计算装置,像差测量角度范围计算方法和电子显微镜

摘要

A device which computes an angular range of illumination of an electron beam in which aberrations in an optical system can be measured efficiently by a tableau method. The device (100) includes an aberration coefficient information acquisition portion (112) for obtaining information about aberration coefficients of the optical system, a phase distribution computing portion (114) for finding a distribution of phases in the electron beam passed through the optical system on the basis of the information about the aberration coefficients, and an angular range computing portion (116) for finding the angular range of illumination on the basis of the distribution of phases found by the phase distribution computing portion (114).
机译:一种计算电子束照射角度范围的装置,其中可以通过Tableau方法有效地测量光学系统中的像差。装置(100)包括:像差系数信息获取部分(112),用于获得关于光学系统的像差系数的信息;相位分布计算部分(114),用于查找通过光学系统的电子束中的相位分​​布。根据关于像差系数的信息,以及角度范围计算部分(116),该角度范围计算部分(116)基于由相位分布计算部分(114)找到的相位分布来找到照明的角度范围。

著录项

  • 公开/公告号JP6326303B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-05-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本電子株式会社;

    申请/专利号JP20140125380

  • 发明设计人 森下 茂幸;

    申请日2014-06-18

  • 分类号H01J37/153;H01J37/28;H01J37/26;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:09:59

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