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UV Silazane reforming method using a UV pulse

机译:使用紫外线脉冲的紫外线硅氮烷重整方法

摘要

One embodiment of the present invention relates to a method of coating a surface of a substrate coated with a polysilazane, a step of pretreating the surface of the substrate coated with the polysilazane, and a step of irradiating the surface of the pretreated substrate with a pulse UV, To a silica. The present invention also provides a method for producing a silica film.
机译:本发明的一个实施方案涉及一种涂覆涂覆有聚硅氮烷的基材的表面的方法,对涂覆有聚硅氮烷的基材的表面进行预处理的步骤以及用脉冲照射预处理的基材的表面的步骤。紫外线,二氧化硅。本发明还提供一种生产二氧化硅膜的方法。

著录项

  • 公开/公告号KR101910188B1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 한국생산기술연구원;

    申请/专利号KR20160126736

  • 发明设计人 신교직;최경호;백정주;

    申请日2016-09-30

  • 分类号C01B33/12;C08J5/18;C08J7/04;C09D183/04;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 12:36:56

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