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SEMI-VOLATILE EMBEDDED MEMORY WITH BETWEEN-FIN FLOATING-GATE DEVICE AND METHOD

机译:鳍式浮栅器件之间的半挥发性嵌入式存储器和方法

摘要

Embodiments of the present disclosure provide techniques and configurations for semi-volatile embedded memory with between-fin floating gates. In one embodiment, an apparatus includes a semiconductor substrate and a floating-gate memory structure formed on the semiconductor substrate including a bitcell having first, second, and third fin structures extending from the substrate, an oxide layer disposed between the first and second fin structures and between the second and third fin structures, a gate of a first transistor disposed on the oxide layer and coupled with and extending over a top of the first fin structure, and a floating gate of a second transistor disposed on the oxide layer between the second and third fin structures. Other embodiments may be described and/or claimed.
机译:本公开的实施例提供了用于具有鳍间浮置栅极的半挥发性嵌入式存储器的技术和配置。在一个实施例中,一种装置包括:半导体衬底;以及形成在半导体衬底上的浮栅存储器结构,该浮栅存储器结构包括具有从衬底延伸的第一,第二和第三鳍片结构的位单元,设置在第一和第二鳍片结构之间的氧化物层。在第二鳍片结构和第三鳍片结构之间,第一晶体管的栅极设置在氧化物层上并与第一鳍片结构的顶部相连并在其上方延伸,第二晶体管的浮置栅极设置在第二鳍片之间的氧化物层上。第三鳍结构。可以描述和/或要求保护其他实施例。

著录项

  • 公开/公告号EP3314664A4

    专利类型

  • 公开/公告日2019-02-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTEL CORPORATION;

    申请/专利号EP20150896566

  • 申请日2015-06-26

  • 分类号H01L29/78;H01L21/336;H01L29/788;H01L27/11519;H01L27/11521;H01L27/11558;H01L29/66;H01L27/02;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 12:28:07

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