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Defect inspection apparatus, management method and management apparatus for defect inspection apparatus

机译:缺陷检查设备,缺陷检查设备的管理方法和管理设备

摘要

According to one embodiment, a management method of a defect inspection apparatus, includes generating, with respect to a plurality of measurement points of a measurement target, difference values between signals obtained from an image of the measurement target and signals obtained from a reference image, generating a frequency distribution of the difference values, and determining whether the frequency distribution satisfies a predetermined condition.
机译:根据一个实施例,一种缺陷检查设备的管理方法,包括:对于测量目标的多个测量点,生成从测量目标的图像获得的信号与从参考图像获得的信号之间的差值,产生所述差值的频率分布,并确定所述频率分布是否满足预定条件。

著录项

  • 公开/公告号JP6513982B2

    专利类型

  • 公开/公告日2019-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社東芝;

    申请/专利号JP20150052346

  • 发明设计人 平野 亮一;飯田 晋;

    申请日2015-03-16

  • 分类号G01N21/88;H01L21/66;G03F1/84;G03F7/20;G01N21/956;G01B11/30;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:21:05

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