首页> 外国专利> A reference device, a spectral interference type measuring device, a coating apparatus, a method for guaranteeing measurement accuracy of the spectral interference type measuring device, and a method of manufacturing a coated film.

A reference device, a spectral interference type measuring device, a coating apparatus, a method for guaranteeing measurement accuracy of the spectral interference type measuring device, and a method of manufacturing a coated film.

机译:参考装置,光谱干涉型测定装置,涂布装置,用于确保光谱干涉型测定装置的测定精度的方法,以及涂膜的制造方法。

摘要

The present invention provides a standard, a measuring and coating apparatus, a measurement accuracy assurance and film manufacturing method. The standard includes a non-light-transmitting first blockhaving a groove portion, and a light-transmitting second block stacked on the first block. A spectroscopic interferometric measuring device, by using the second block, irradiates the groove portion of the first block with light, and the reflected light from the surface, close to the first block, of the second block and the reflected light from the bottom surface of the groove portion form predetermined interference light corresponding to the depth of the groove portion.
机译:本发明提供了一种标准,一种测量和涂覆设备,一种测量精度保证以及一种薄膜的制造方法。该标准包括具有凹槽部分的不透光的第一块以及堆叠在第一块上的透光的第二块。光谱干涉测量装置通过使用第二块,向第一块的凹槽部分照射光,并从第二块的靠近第一块的表面反射的光和从第二块的底表面反射的光。凹槽部分形成对应于凹槽部分深度的预定干涉光。

著录项

  • 公开/公告号JP6533770B2

    专利类型

  • 公开/公告日2019-06-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日東電工株式会社;

    申请/专利号JP2016219609

  • 发明设计人 道平 創;近藤 信;

    申请日2016-11-10

  • 分类号G01B11/06;G01B9/02;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:21:04

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