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半導体装置、電源装置、増幅器及び半導体装置の製造方法

机译:半导体装置,电源装置,放大器及半导体装置的制造方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device having high breakdown voltage and high reliability even when carrying out heat treatment for ohmic-contacting with an electrode.;SOLUTION: The semiconductor device comprises: a first semiconductor layer formed of a compound semiconductor on a substrate; a second semiconductor layer formed of the compound semiconductor on the first semiconductor layer; a source electrode and a drain electrode formed on the second semiconductor layer; a Ta film covering the source electrode and the drain electrode; and a gate electrode formed on the second semiconductor layer, therein the Ta film is formed of α-Ta, or the Ta film contains more α-Ta than β-Ta.;SELECTED DRAWING: Figure 2;COPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种即使在进行与电极欧姆接触的热处理时也具有高击穿电压和高可靠性的半导体器件;解决方案:该半导体器件包括:在衬底上由化合物半导体形成的第一半导体层。基质;在第一半导体层上由化合物半导体形成的第二半导体层;在第二半导体层上形成的源电极和漏电极; Ta膜覆盖源电极和漏电极;在第二半导体层上形成栅电极,其中Ta膜由α-Ta形成,或者Ta膜中的α-Ta比β-Ta多;图2版权:(C)2019,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JP2019036586A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJITSU LTD;

    申请/专利号JP20170155642

  • 发明设计人 尾崎 史朗;

    申请日2017-08-10

  • 分类号H01L21/338;H01L29/812;H01L29/778;H01L21/28;H01L29/417;H01L21/285;C23C14/14;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:20:01

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