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Method of semiconductor device fabrication having application of material with cross-linkable component

机译:施加具有可交联组分的材料的半导体器件制造方法

摘要

Provided is a material composition and method for that includes providing a primer material including a surface interaction enhancement component, and a cross-linkable component. A cross-linking process is performed on the deposited primer material. The cross-linkable component self-cross-links in response to the cross-linking process to form a cross-linked primer material. The cross-lined primer material can protect an underlying layer while performing at least one process on the cross-linked primer material.
机译:提供一种材料组合物和用于其的方法,其包括提供底漆材料,该底漆材料包括表面相互作用增强组分和可交联组分。在沉积的底漆材料上进行交联过程。可交联组分响应于交联过程而自交联以形成交联的底漆材料。交联底漆材料可以在对交联底漆材料进行至少一种处理的同时保护下面的层。

著录项

  • 公开/公告号US10163648B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-12-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO. LTD.;

    申请/专利号US201715599851

  • 申请日2017-05-19

  • 分类号H01L21/308;H01L21/033;H01L21/027;H01L21/02;H01L21/3105;G03F7/11;B05D3/10;C09D133/10;C08L33/10;C09D133/12;B05D3/06;C09D133/08;C08L33/12;C09D135/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:12:53

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