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SCHOTTKY DIODE INTEGRATED INTO SUPERJUNCTION POWER MOSFETS

机译:肖特基二极管集成到超功率MOSFET

摘要

A trench metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET) device comprises an active cell area including a plurality of superjunction trench power MOSFETs, and a Schottky diode area including a plurality of Schottky diodes formed in the drift region having the superjunction structure. Each of the integrated Schottky diodes includes a Schottky contact between a lightly doped semiconductor layer and a metallic layer
机译:沟槽金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件包括:有源单元区域,其包括多个超结沟槽功率MOSFET;以及肖特基二极管区域,其包括在具有超结结构的漂移区中形成的多个肖特基二极管。每个集成肖特基二极管均包括轻掺杂半导体层和金属层之间的肖特基接触

著录项

  • 公开/公告号US2019189796A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-06-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ALPHA AND OMEGA SEMICONDUCTOR (CAYMAN) LTD.;

    申请/专利号US201715843327

  • 发明设计人 YI SU;MADHUR BOBDE;

    申请日2017-12-15

  • 分类号H01L29/78;H01L29/06;H01L29/10;H01L29/423;H01L29/08;H01L29/66;H01L21/266;H01L21/306;H01L21/28;H01L21/321;H01L29/45;H01L29/47;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:09:31

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