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集成在超级结功率MOSFET中的肖特基二极管

摘要

一种沟槽金属‑氧化物‑半导体场效应晶体管(MOSFET)器件,包括一个有源晶胞区,有源晶胞区包括多个超级结沟槽功率MOSFET,肖特基二极管区包括多个肖特基二极管,形成在具有超级结结构的漂流区中。每个集成的肖特基二极管都包括一个肖特基接头,在轻掺杂的半导体层和金属层之间。

著录项

  • 公开/公告号CN109935634A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万国半导体(开曼)股份有限公司;

    申请/专利号CN201811393031.2

  • 发明设计人 苏毅;马督儿·博德;

    申请日2018-11-21

  • 分类号

  • 代理机构上海元好知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘琰

  • 地址 英属西印度群岛开曼群岛大开曼岛KY1-1107邮政信箱709玛丽街122号和风楼

  • 入库时间 2024-02-19 11:41:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20181121

    实质审查的生效

  • 2019-06-25

    公开

    公开

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