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Power Semiconductor Device Having an SOI Island

机译:具有SOI岛的功率半导体器件

摘要

A power semiconductor device includes a semiconductor-on-insulator island having a semiconductor region and an insulation structure, the insulation structure being formed by an oxide and separating the semiconductor region from a portion of a semiconductor body of the power semiconductor device. The insulation structure includes a sidewall that laterally confines the semiconductor region; a bottom that vertically confines the semiconductor region; and a local deepening that forms at least a part of a transition between the sidewall and the bottom, wherein the local deepening extends further along the extension direction as compared to the bottom.
机译:功率半导体器件包括具有半导体区域和绝缘结构的绝缘体上半导体岛,该绝缘结构由氧化物形成并且将半导体区域与功率半导体器件的半导体本体的一部分分开。绝缘结构包括侧壁,该侧壁在横向上限制半导体区域。在垂直方向上限制半导体区域的底部;局部加深部分,其形成侧壁和底部之间的过渡的至少一部分,其中与底部相比,局部加深部分沿着延伸方向进一步延伸。

著录项

  • 公开/公告号US2019198612A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-06-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号US201916290477

  • 发明设计人 ALEXANDER PHILIPPOU;ANTON MAUDER;

    申请日2019-03-01

  • 分类号H01L29/06;H01L21/762;H01L21/02;H01L29/417;H01L21/311;H01L29/10;H01L29/78;H01L29/423;H01L29/66;H01L29/739;H01L27/12;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:07:43

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