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Method for controlling a gas supply to a process chamber, controller for controlling a gas supply to a process chamber, and apparatus

机译:用于控制向处理室的气体供应的方法,用于控制向处理室的气体供应的控制器和装置

摘要

A method for controlling a gas supply to a process chamber is provided. The method includes: measuring a gas parameter by each of two or more sensors provided in the process chamber; determining a combined gas parameter from the measured gas parameters; and controlling the gas supply to the process chamber based on the determined combined gas parameter.
机译:提供了一种用于控制向处理室的气体供应的方法。该方法包括:通过设置在处理室中的两个或更多个传感器中的每个来测量气体参数;根据测得的气体参数确定组合气体参数;基于确定的混合气体参数控制向处理室的气体供应。

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