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TUNNEL MAGNETORESISTANCE EFFECT ELEMENT, MAGNETIC MEMORY, AND BUILT-IN MEMORY

机译:隧道磁阻效应元件,磁存储器和内置存储器

摘要

A TMR element includes a reference layer, a tunnel barrier layer, a perpendicular magnetization inducing layer, and a magnetization free layer stacked along a stack direction between the tunnel barrier layer and the perpendicular magnetization inducing layer. The perpendicular magnetization inducing layer imparts magnetic anisotropy along the stack direction to the magnetization free layer. The width of the magnetization free layer is smaller than any of the width of the tunnel barrier layer or the width of the perpendicular magnetization inducing layer.
机译:TMR元件包括参考层,隧道势垒层,垂直磁化诱导层和沿堆叠方向在隧道势垒层与垂直磁化诱导层之间堆叠的自由磁化层。垂直磁化诱导层沿堆叠方向将磁各向异性赋予磁化自由层。自由磁化层的宽度小于隧道势垒层的宽度或垂直磁化诱导层的宽度中的任何一个。

著录项

  • 公开/公告号EP3699955A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-08-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK CORPORATION;

    申请/专利号EP20170929307

  • 发明设计人 SASAKI TOMOYUKI;

    申请日2017-10-16

  • 分类号H01L21/8239;H01L27/105;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 11:39:44

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