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A plasma reactor that digitally controls the rotational frequency of a microwave field using direct upconversion

机译：使用直接上变频以数字方式控制微波场旋转频率的等离子体反应器

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A plasma reactor for processing a workpiece has a microwave source with a digitally synthesized rotation frequency using direct digital up-conversion and a user interface for controlling the rotation frequency.

机译：用于处理工件的等离子体反应器具有微波源，该微波源具有使用直接数字上变频进行数字合成的旋转频率，以及用于控制旋转频率的用户界面。

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公开/公告号JP6622321B2

专利类型
公开/公告日2019-12-18

原文格式PDF
申请/专利权人アプライドマテリアルズインコーポレイテッド;
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申请/专利号JP20170550111
发明设计人小林理;菅井秀郎;パク;スナム;ラーマスワーミ;カーティク;ルボミルスキー;ドミトリー;
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申请日2016-03-03
分类号H05H1/46;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 11:35:21

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