首页> 外国专利> Block copolymer materials containing polyhedral oligomeric silsesquioxane(POSS)

Block copolymer materials containing polyhedral oligomeric silsesquioxane(POSS)

机译:包含多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)的嵌段共聚物材料

摘要

A macromolecular photonic crystal material including an A block and a B block is disclosed.;the A block comprises a crystalline polyhedral oligomeric POSS, the macromolecular photonic crystal material represented by the structural formula 1.; embedded image
机译:公开了一种包括A嵌段和B嵌段的大分子光子晶体材料。A嵌段包括结晶多面体低聚物POSS,该大分子光子晶体材料由结构式1表示。 “嵌入式图像”

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号