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ENVIRONMENTAL PROTECTION FOR WAFER LEVEL AND PACKAGE LEVEL APPLICATIONS

机译:晶圆级和包装级应用的环境保护

摘要

A method includes the steps of fabricating one or more semiconductor devices on a semiconductor wafer and depositing one or more conformal organic environmental protection layers over the semiconductor wafer using a vapor deposition process. By depositing the one or more conformal organic environmental protection layers using a vapor deposition process, thin film conformal organic environmental protection layers may be provided that offer excellent protection against water and oxygen ingress, thus increasing the ruggedness and reliability of the resulting semiconductor die.
机译:一种方法包括以下步骤:在半导体晶片上制造一个或多个半导体器件,并使用气相沉积工艺在半导体晶片上沉积一个或多个共形有机环境保护层。通过使用气相沉积工艺沉积一个或多个共形有机环境保护层,可以提供薄膜共形有机环境保护层,其提供优异的防止水和氧气进入的保护,从而提高了所得半导体管芯的坚固性和可靠性。

著录项

  • 公开/公告号US2020152533A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-05-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 QORVO US INC.;

    申请/专利号US202016743345

  • 申请日2020-01-15

  • 分类号H01L23/29;H01L21/56;H01L23/31;H01L23;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:24:41

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