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ROOM-TEMPERATURE FERROMAGNETIC SEMICONDUCTOR LAYERS, ELECTRONIC DEVICES INCLUDING THE SAME, AND METHODS OF FORMING THE SAME

机译:室温铁磁半导体层,包含相同层的电子设备以及形成相同层的方法

摘要

Ferromagnetic semiconductor layers and methods of forming the same are provided. Electronic devices including the ferromagnetic semiconductor layer are also provided. The ferromagnetic semiconductor layer may include an atomically thin transition metal dichalcogenide layer. The atomically thin transition metal dichalcogenide layer may include dopant metal atoms therein.
机译:提供了铁磁半导体层及其形成方法。还提供了包括铁磁半导体层的电子设备。该铁磁半导体层可以包括原子上薄的过渡金属二卤化硅层。原子上薄的过渡金属二卤化物层可在其中包含掺杂剂金属原子。

著录项

  • 公开/公告号US2020273955A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY;

    申请/专利号US202016798501

  • 发明设计人 LINYOU CAO;GUOQING LI;

    申请日2020-02-24

  • 分类号H01L29/24;H01L29/43;H01L21/02;H01L43/10;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:22:46

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