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Method of limiting micro arc discharges in the magnetron sputtering process

机译:在磁控溅射工艺中限制微弧放电的方法

摘要

The essence of the invention is how to prevent microbial arc deposits in less intensively sprayed market areas by using insulating ceramic coatings placed on the market surface in these areas. Insulating ceramic coverings in the form of a ceramic ring (4) and a ceramic ring (5) were used on the market surface.
机译:本发明的本质是如何通过使用放置在这些区域的市场表面上的绝缘陶瓷涂层来防止在不太密集喷涂的市场区域中的微生物电弧沉积。在市场表面上使用了陶瓷环(4)和陶瓷环(5)形式的绝缘陶瓷覆盖物。

著录项

  • 公开/公告号PL235123B1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-06-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 POLITECHNIKA BIAŁOSTOCKA;

    申请/专利号PL20180426373

  • 发明设计人 MROZEK PIOTR;

    申请日2018-07-18

  • 分类号H01H33;H01H33/24;

  • 国家 PL

  • 入库时间 2022-08-21 11:16:47

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