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WAVELENGTH SELECTION FILTER, METHOD OF MANUFACTURING WAVELENGTH SELECTION FILTER, AND DISPLAY DEVICE

机译:波长选择滤波器,制造波长选择滤波器的方法以及显示装置

摘要

Provided is a wavelength selection filter, wherein the thickness of a first high refractive index part is T1, the thickness of a second high refractive index part is T2, the refractive index of the material of a high refractive index layer is n1, the refractive index of the material of an uneven structure layer is n2, the refractive index of the material of an embedded layer is n3, the area ratio of the first high refractive index part is R1, and the area ratio of the second high refractive index part is R2. n1n2, n1n3, and R1+R21. The value of T1×{n1×R1+n2×(1-R1)} is a first parameter, the value of T2×{n1×R2+n3×(1-R2)} is a second parameter, and the ratio of the second parameter to the first parameter is 0.7-1.3.
机译:提供一种波长选择滤光片,其中第一高折射率部分的厚度为T1,第二高折射率部分的厚度为T2,高折射率层的材料的折射率为n1,所述折射率凹凸结构层的材料的n为n2,埋入层的材料的折射率为n3,第一高折射率部分的面积比为R1,第二高折射率部分的面积比为R2 。 n1> n2,n1> n3和R1 + R2> 1。 T1×{n1×R1 + n2×(1-R1)}的值是第一参数,T2×{n1×R2 + n3×(1-R2)}的值是第二参数,并且第二个参数到第一个参数是0.7-1.3。

著录项

  • 公开/公告号WO2020175464A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-09-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOPPAN PRINTING CO. LTD.;

    申请/专利号WO2020JP07435

  • 申请日2020-02-25

  • 分类号F21Y115/10;F21Y115/15;H01L33/50;H01L33/60;G02B5/18;G02B5/20;G02B5/26;G02B5/28;G09F9/30;G09F9/33;H01L27/32;F21S2;F21V9/20;F21V9/32;H05B33/02;H05B33/12;H01L51/50;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 11:09:37

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