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光复用/去复用器装置,光波长选择滤波器和制造滤波器的方法

摘要

光复用/去复用器装置(4)包括:基片,所述基片表面上的多个波导(45,46,47,48),多个波长选择滤波器(452,462,472,482)。所述多个滤波器中的每个滤波器能够透射第一预定频带波长(PB’)和反射第二预定频带波长(SB’)。所述多个滤波器中的每个滤波器包括:在所述波导预定位置上设置的多个横向切口(4521,4522,4523)。所述切口形成提供所述第一预定频带的多个透射型对偶和提供所述第二预定频带的多个反射型对偶。所述透射型对偶与所述反射型对偶互相串联。我们分别地公开波长选择滤波器和制造滤波器的方法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-12-30

    专利权的视为放弃

    专利权的视为放弃

  • 2005-03-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-12-29

    公开

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