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The structure and its fabrication process for the capacitive type pressure sensor with through hole via

机译:带通孔的电容式压力传感器的结构及其制造工艺

摘要

An electrostatic pressure sensor according to an embodiment of the present invention includes a first wafer having a first electrode formed therein and a through portion provided to form a pupil when the first wafer is coupled to the first wafer, and the thin film shielding one surface of the through portion, the thin film. It includes a second wafer including a second electrode provided on one side of the.
机译:根据本发明实施例的静电压力传感器包括:第一晶片,该第一晶片具有形成在其中的第一电极;以及通孔部分,该通孔部分设置成当该第一晶片耦合至该第一晶片时形成瞳孔;以及该薄膜遮蔽该晶片的一个表面。贯穿部分,薄膜。它包括第二晶片,该第二晶片包括在其一侧上提供的第二电极。

著录项

  • 公开/公告号KR102074213B1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 포항공과대학교 산학협력단;

    申请/专利号KR20180038229

  • 发明设计人 김인철;김수곤;강민재;

    申请日2018-04-02

  • 分类号H01L41/113;G01L1/14;H01L41/047;H01L41/29;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:05:25

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