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Purification method of thinner waste and thinner composition manufactured thereby

机译:稀浆和由此制备的稀浆的纯化方法

摘要

The present invention relates to a method for purifying a waste thinner liquid used in a semiconductor or display manufacturing process through a distillation step, and a thinner composition obtained thereby. In particular, the method for purifying waste thinner liquid according to the present invention recovers the waste liquid from the thinner used in the rinsing process for cleaning photoresist during the semiconductor or display manufacturing process, and obtains cyclohexanone and methyl amyl ketone (MAK) therefrom. It can be removed to provide an industrially reusable thinner composition.
机译:本发明涉及通过蒸馏步骤纯化在半导体或显示器制造过程中使用的废稀释剂液体的方法,以及由此获得的稀释剂组合物。特别地,根据本发明的用于净化稀释剂废液的方法从半导体或显示器制造过程中用于清洗光刻胶的漂洗工艺中所用的稀释剂中回收废液,并由此获得环己酮和甲基戊基酮(MAK)。可以将其除去以提供工业上可重复使用的稀释剂。

著录项

  • 公开/公告号KR102156903B1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JAEWON INDUSTRIAL CO. LTD.;EM TECH. CO. LTD.;

    申请/专利号KR20200035711

  • 发明设计人 심성원;

    申请日2020-03-24

  • 分类号G03F7/30;B01D3/10;B01D3/32;C02F1/04;C11D7/24;C11D7/26;G03F7/42;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:03:47

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