首页> 外国专利> High aspect ratio mirror and mirror substrate, and method and means for producing such a mirror substrate

High aspect ratio mirror and mirror substrate, and method and means for producing such a mirror substrate

机译：高纵横比的镜和镜基板，以及用于生产这种镜基板的方法和装置

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

The invention generally relates to a mirror and a mirror substrate, especially a mirror and a mirror substrate having a high aspect ratio, and a method and means for producing them. Figure for the abstract: Fig 1

机译：技术领域本发明总体上涉及一种镜和镜基板，特别是具有高纵横比的镜和镜基板，以及用于制造它们的方法和装置。图为摘要：图1

著录项

公开/公告号FR3084936A1

专利类型
公开/公告日2020-02-14

原文格式PDF
申请/专利权人 SCHOTT AG;
展开▼

申请/专利号FR1909031
发明设计人 MARTIN SCHAEFER;MARCO WEISENBURGER;VOLKER SEIBERT;THOMAS WESTERHOFF;
展开▼

申请日2019-08-07
分类号G02B7/192;B65G49/05;C03C10;G02B5/08;G02B7/183;
国家 FR
入库时间 2022-08-21 11:00:34

相似文献

专利
外文文献
中文文献