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NEGATIVE-TONE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIST FILM, AND METHOD OF FORMING PATTERN

机译：负色光敏树脂组合物，光敏抗蚀膜和形成图案的方法

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摘要

A negative-tone photosensitive resin composition containing an epoxy group-containing resin, a cationic polymerization initiator, and a polyfunctional thiol compound.

机译：负型感光性树脂组合物，其包含含环氧基的树脂，阳离子聚合引发剂和多官能硫醇化合物。

著录项

公开/公告号US20200201181A1

专利类型
公开/公告日2020-06-25

原文格式PDF
申请/专利权人
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申请/专利号US16701720
发明设计人 Hirofumi IMAI;Ryuma MIZUSAWA;Ryosuke NAKAMURA;Takahiro KONDO;
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申请日2019-12-03
分类号
国家 US
入库时间 2022-08-21 10:58:05

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