法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-06-16
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06F 17/50 授权公告日:20120725 终止日期:20160426 申请日:20100426
专利权的终止
2012-07-25
授权
授权
2010-11-03
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20100426
实质审查的生效
2010-09-15
公开
公开
机译: 制造用于太阳能电池的晶体硅基质的方法,一种用于制造晶体硅太阳能电池的方法以及一种制造晶体硅太阳能电池模块的方法
机译: 制造用于太阳能电池的晶体硅基质的方法,一种用于制造晶体硅太阳能电池的方法以及一种制造晶体硅太阳能电池模块的方法
机译: 从DSA序列中提取和可视化信息的方法,涉及可视化造影剂强度与输出图像中数学模型的建模造影剂强度过程之间的偏差