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在纯铜或铜合金基体上熔盐电镀厚钨涂层的制备方法

摘要

一种纯铜或铜合金基体表面在熔融盐浴中电镀厚钨涂层的方法,属于表面工程技术领域。工作电极(基体金属)为CuZrCr或无氧铜(OF-Cu)或弥散强化铜合金,对电极(阳极)为纯金属钨片,电极经过表面和干燥处理。熔融盐为Na2WO4-WO3二元体系,按照一定摩尔比称量干燥后混匀加热到熔融状态,连接阴极和阳极,通过设定电流参数和调整电镀时间,获得所需厚度的金属钨涂层。电流采用单向脉冲电流,固定均值电流密度在100~150mA/cm2、脉冲频率10~1000Hz和占空比0.1~0.75,通过调整电镀时间获得所需厚度超过1mm的钨涂层。本发明的优点在于:金属钨涂层致密度高,结合强度高;适用于异型零件;工艺设备简单,操作方便,成本低廉,无污染。

著录项

  • 公开/公告号CN102002743B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-07-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN201010575369.7

  • 申请日2010-12-01

  • 分类号C25D3/66(20060101);

  • 代理机构11296 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘淑芬

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号

  • 入库时间 2022-08-23 09:10:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25D 3/66 授权公告日:20120704 终止日期:20171201 申请日:20101201

    专利权的终止

  • 2012-07-04

    授权

    授权

  • 2012-07-04

    授权

    授权

  • 2011-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D3/66 申请日:20101201

    实质审查的生效

  • 2011-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 3/66 申请日:20101201

    实质审查的生效

  • 2011-04-06

    公开

    公开

  • 2011-04-06

    公开

    公开

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