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投射阴影的自动陷印

摘要

一种用于自动陷印投射阴影的方法、程序产品和系统。对于毗邻包括投射阴影的原子区域的至少一个分段,以及对于分段的每一侧,确定该侧毗邻的原子区域的第一平面化颜色,以及如果该原子区域包括投射阴影,则另外确定忽略投射阴影颜色的第二平面化颜色。确定来自该侧第一平面化颜色的有效中性密度,如果该侧具有第二平面化颜色,则确定该侧的第二平面化颜色。基于针对各侧的有效中性密度来陷印毗邻于分段的两个原子区域。

著录项

  • 公开/公告号CN101542539B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-06-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 奥多比公司;

    申请/专利号CN200780043908.9

  • 申请日2007-10-09

  • 分类号H04N1/58(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人朱海波

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:10:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-27

    授权

    授权

  • 2009-12-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-23

    公开

    公开

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