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等离子体处理装置及其反馈控制方法、高频电力供给方法

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本发明提供一种等离子体处理装置及其反馈控制方法、高频电力供给方法。微波等离子体处理装置(10)包括：处理容器(100)；在处理容器内设置的、载置基板(G)的基座(105)；在设置在基座(105)的同一圆周上的3个位置(P1～P3)处与基座接触的3根供电棒(B1～B3)；和与3根供电棒(B1～B3)连接，且经3根供电棒(B1～B3)从3个以上的位置(P1～P3)向基座(105)供给高频电力的高频电源(130)。在基座(105)的同一圆周上的3个位置(P)处3根供电棒(B1～B3)与基座(105)接触。高频电源(130)与3根供电棒(B1～B3)连接，将从高频电源(130)输出的高频电力经3根供电棒(B)从3个位置(P1～P3)供给到基座(105)。

著录项

公开/公告号CN101661871B

专利类型发明专利
公开/公告日2012-06-13

原文格式PDF
申请/专利权人东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学;
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申请/专利号CN200910129116.4
发明设计人小林聪树;杉山正树;加藤充男;广江昭彦;大见忠弘;平山昌树;
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申请日2009-03-25
分类号H01L21/00(20060101);H05H1/24(20060101);H01J37/32(20060101);
代理机构11322 北京尚诚知识产权代理有限公司;
代理人龙淳
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:10:07

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-05-11

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/00 授权公告日:20120613 终止日期:20150325 申请日:20090325

专利权的终止
2012-06-13

授权

授权
2010-04-28

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20090325

实质审查的生效
2010-03-03

公开

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