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移除基板表面过量金属的电解装置及应用该装置以移除过量金属的方法

摘要

一种移除基板表面过量金属的电解装置,包括:一电解槽(electrolysis bath),包含一电解液;一输送系统(transportation system),设置于电解槽处,用以传送一基板自输送系统的一上游端往一下游端移动,其中基板浸没于该电解液中;一阳极滚轮(anode roller),对应设置于电解槽处,且阳极滚轮位于输送系统的上游端;一阴极滚轮(cathode roller),位于输送系统上方并设置于相对阳极滚轮的下游处,且阴极滚轮的底部部分浸渍于电解液中;至少一遮蔽板(shielding plate),位于阴极滚轮的下游且遮蔽输送系统的下游端。应用该装置以移除过量金属时,令阳极滚轮与基板的一表面接触,阴极滚轮则与基板表面呈一距离。当与阳极滚轮接触后的基板表面在往输送系统的下游端时,于移动至遮蔽板之前可与阴极滚轮之间产生一电场,以进行电解。

著录项

  • 公开/公告号CN101851777B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-06-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日月光半导体制造股份有限公司;

    申请/专利号CN200910133259.2

  • 发明设计人 唐心陆;翁肇甫;

    申请日2009-04-01

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人陆勍

  • 地址 中国台湾高雄市楠梓加工出口区经三路26号

  • 入库时间 2022-08-23 09:10:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-13

    授权

    授权

  • 2010-11-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25F 7/00 申请日:20090401

    实质审查的生效

  • 2010-10-06

    公开

    公开

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