带电束曝光掩模及带电束曝光方法

摘要

一种电子束曝光掩模，此掩模包括一基片，该基片具有一第一区域和第二区域，在第一区域内形成第一组多个单元孔径，在第二区域内形成第二组多个单元孔径。被辐射到第一区域的带电束的偏转角小于基准角。被辐射到第二区域的带电束的偏转角大于或等于基准角。每个第一组多个单元孔径都对应于需要高图形转换精度的精细图形。每个第二组多个单元孔径对应于不需高图形转换精度的精略图形。