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双图案设计中的单元边界隔离的方法

摘要

针对芯片布局设计双图案掩模组的方法包括设计标准单元。在每个标准单元中,所有的左边界图案都分配有第一标记和第二标记中的一个,而所有右边界图案都分配有第一标记和第二标记中的另一个。该方法还包括:在芯片布局的行中放置标准单元。从行中的一个标准单元开始,贯穿整行来传播针对标准单元的标记改变。具有第一标记的标准单元中的所有图案都被转印到双图案掩模组的第一掩模。具有第二标记的标准单元中的所有图案都被转印到双图案掩模组的第二掩模。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-20

    授权

    授权

  • 2010-09-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/14 申请日:20100128

    实质审查的生效

  • 2010-08-11

    公开

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