法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-08-06
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/66 授权公告日:20120620 终止日期:20130616 申请日:20080616
专利权的终止
2012-06-20
授权
授权
2010-02-10
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-02-11
公开
公开
机译: 晶片平坦度评估方法及实施该评估方法的装置;使用评估方法的晶圆生产方法,使用评估方法的晶圆质量保证方法,使用评估方法的半导体器件生产方法以及使用评估方法评估的晶圆的半导体器件生产方法
机译: 旋转半导体器件扇出晶圆级封装以及制造旋转半导体器件扇出晶圆级封装的方法
机译: 制造半导体器件的表晶圆的方法以及半导体器件的表晶圆