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隧道磁阻器件、其制造方法、磁头及磁存储器

摘要

一种隧道磁阻器件、其制造方法、磁头及磁存储器,在该隧道磁阻器件中,势垒层设置在被钉扎层上,该被钉扎层由具有固定磁化方向的铁磁材料制成,该势垒层具有允许电子以隧道现象穿过的厚度。第一自由层设置在该势垒层上,该第一自由层由在外部磁场下磁化方向发生改变的非晶或微晶软磁材料制成。第二自由层设置在该第一自由层上,该第二自由层由在外部磁场下磁化方向发生改变的晶体软磁材料制成,该第二自由层与该第一自由层交互耦合。在第一与第二自由层之间设置有结晶抑制层,该结晶抑制层通过延续第二自由层的晶体结构来防止第一自由层结晶。本发明提供了具有良好的磁特性并且可抑制隧道电阻变化率变低的隧道磁阻器件。

著录项

  • 公开/公告号CN101183704B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号CN200710152798.1

  • 发明设计人 佐藤雅重;梅原慎二郎;指宿隆弘;

    申请日2007-09-21

  • 分类号H01L43/08(20060101);H01L43/12(20060101);H01F10/32(20060101);H01F10/16(20060101);G11B5/39(20060101);G11C11/15(20060101);G11C11/16(20060101);

  • 代理机构72003 隆天国际知识产权代理有限公司;

  • 代理人张龙哺

  • 地址 日本神奈川县川崎市

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 43/08 授权公告日:20120523 终止日期:20180921 申请日:20070921

    专利权的终止

  • 2012-05-23

    授权

    授权

  • 2012-05-23

    授权

    授权

  • 2008-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-21

    公开

    公开

  • 2008-05-21

    公开

    公开

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