法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-07-19
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/00 授权公告日:20120516 终止日期:20180801 申请日:20080801
专利权的终止
2012-05-16
授权
授权
2012-05-16
授权
授权
2010-08-25
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20080801
实质审查的生效
2010-08-25
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20080801
实质审查的生效
2010-06-30
公开
公开
2010-06-30
公开
公开
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机译: 纳米压印模具,用于制造纳米压印模具的方法,使用该纳米压印模具的纳米压印方法以及图案化基板的制造方法
机译: 用于将模具的图案压印到基板的树脂材料上的压印方法和相关的基板处理方法
机译: 制造用于压印的模板基板的方法,用于压印的模板基板的基板,用于压印的模板的基板以及制造半导体装置的方法