法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-08
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B01J 35/10 授权公告日:20120404 终止日期:20180319 申请日:20040319
专利权的终止
2012-04-04
授权
授权
2012-04-04
授权
授权
2010-01-13
实质审查的生效
实质审查的生效
2010-01-13
实质审查的生效
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2009-11-18
公开
公开
2009-11-18
公开
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机译: 平面陶瓷膜组件及其制造方法,平面陶瓷晶片组件及其制造方法,陶瓷膜堆叠,平面陶瓷通道支撑层组件,碳氧氧化过程,陶瓷层的制备方法,制备绿色陶瓷
机译: 通过在Si1-xGex的衬底上氧化制备二氧化硅层的方法,制备方法以及制备光学或电子组件的Si1-xGexOI结构
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