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超低残留反射的低应力透镜涂层

摘要

本发明给出一种用防反射(AR)涂层对光学透镜和其他光学制品涂覆的方法。透镜有低的反射率,提供基本上白色的光反射,并有低应力AR涂层,且理想地适合用于模制工艺制作的光学透镜,该种模制工艺给出低应力的透镜基片。一方面,本方法使用专门的涂层成分,其中之一是高折射率成分,另一种是低折射率成分。另一方面,还公开一种光学监控器与常规汽相淀积设备结合使用的方法,按照该方法,使用光学参考透镜,并测量反射光中特定的光学频率,然后用该测量来确定何时获得需要的光学涂层。再一方面,本方法最好还用反射光中蓝光对绿光对红光的专门比例,计算每一层的光学厚度。必要时,还通过调整每一层的光学厚度,控制AR膜的应力,使低/高折射率层之间的拉应力和压应力的差最小。

著录项

  • 公开/公告号CN1795284B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-03-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 奥普梯玛公司;

    申请/专利号CN200480014127.3

  • 申请日2004-05-18

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人蒋世迅

  • 地址 美国康涅狄格

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/08 授权公告日:20120321 终止日期:20130518 申请日:20040518

    专利权的终止

  • 2012-03-21

    授权

    授权

  • 2006-08-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-06-28

    公开

    公开

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